靶材就是髙速荷能粒子轰击的目标材料。例如:蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发

镀膜.铝膜等，更换不同的靶材(如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等),即可得到不同的膜系如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。

这里把靶材分为两大类：金属靶材、陶瓷靶材。

金属靶材:

镍靶、N、钛靶、Ti、锌靶、Zn、铬靶、Cr、镁靶、kg、铌靶、№b、锡靶、Sn、铝靶、A1、铟靶、I、铁靶、Fe、锆铝靶、ZrAl、钛铝靶、TiΔl、锆靶、Zr、铝硅靶、AlSi、硅靶Sⅰ、铜靶Cu、钽靶T、a、锗靶、e、银靶、Ag、钻靶、Co、金靶、Au、钆靶、Gd、镧靶、La、亿靶、Y、铈靶、Ce、钨靶、w、不锈钢靶、镍铬靶、NiCr、铪靶、H、钼靶、M、铁镍靶、FeNi、钨靶、W等。

陶瓷靶材

陶瓷靶材分为化合物陶瓷靶材和氧化物靶材，产品包含氧化物、氟化物、氮化物、碳化物、硼化物、硫化物、硅化物、硒化物、碲化物、磷化物以及各类混合掺杂物，纯度99.5%-99.999%，适合磁控溅射镀、热蒸镀、电子束蒸镀，产品广泛应用于各类半导体行业、太阳能光伏光热行业、建筑、装饰、汽车、平面显示、LCD、LED、集成电路，元器件、磁记录、装饰、工具镀膜、航空航天、军工、科研等领域。

制作工艺

磁控溅射靶材

1）磁控溅射原理：

在被溅射的靶极（阴极）与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体（通常为Ar气），永久磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大，在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。磁控溅射一般分为二种：直流溅射和射频溅射，其中直流溅射设备原理简单，在溅射金属时，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电材料外，也可溅射非导电的材料，同时还可进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，如今，常用的有电子回旋共振(ECR）型微波等离子体溅射。

2）磁控溅射靶材种类：

金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，氟化物陶瓷溅射靶材，氮化物陶瓷溅射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷溅射靶材，硅化物陶瓷溅射靶材，硫化物陶瓷溅射靶材，碲化物陶瓷溅射靶材，其他陶瓷靶材，掺铬一氧化硅陶瓷靶材（Cr-SiO），磷化铟靶材（InP），砷化铅靶材（PbAs），砷化铟靶材（InAs）