溅射靶材在许多领域都有重要的应用，例如建筑，光学，电子等。电子工业中使用的溅射靶可细分为半导体靶，平面靶，镀膜玻璃靶，太阳能光伏靶等。 在不同的应用领域中，溅射材料的选择和性能要求存在一些差异 。其中，半导体靶（用于半导体集成电路的溅射靶）要求最严格。

 

 

 

 

电子领域中溅射靶材的主要类型

 

半导体 - 主要靶材产品W，WTi，Ti，Ta，纯度为4N或5N的铝合金；

 

平面显示器 - 主要靶材产品Nb，Si，Cr，Mo，MoNb，铝合金，Cu和Cu合金靶；

 

装饰 - 主要靶材产品Cr，Ti，Zr，Ni，W，TiAl，CrSi，CrTi，CrAlZr靶；

 

工具 - 主要靶材产品TiAl，CrAl，Cr，Ti，TiC，Al2O3靶；

 

太阳能 - 主要靶材产品ZnOAl，ZnO，ZnAl，Mo，CdS，CIGS靶；

 

电子装置 - 主要靶材产品NiCr，NiCrSi，CrSi，Ta，NiCrAl靶；

 

信息储存 - 主要靶材产品铬合金，钴合金，钴铁合金，镍合金靶

 

 

 

电子领域中溅射靶材的性能要求

 

半导体最高技术要求，超高纯金属，高精度尺寸，高集成度；

 

平面显示器技术要求高，高纯度材料，物料面积大，高均匀度；

 

装饰通用技术要求，节能等；

 

工具高性能要求，延长使用寿命；

 

太阳能技术要求高，适用范围广；

 

电子装置需要小尺寸，良好的稳定性和低温电阻系数；

 

信息储存高存储密度，高传输速度

 

 

 

电子领域中溅射靶材的用途

 

半导体用于制备集成电路核心材料 ；

 

平面显示器溅射技术可确保生产出的薄膜均匀，提高生产率并降低成本；

 

装饰用于产品表面的涂层，以美化，耐磨和耐腐蚀；

 

工具改善工具和模具的表面，提高零件的使用寿命和质量；

 

太阳能用于第四代薄膜太阳能电池生产的溅射镀膜技术；

 

电子装置 薄膜电阻器，薄膜电容器 ；

 

信息储存用于存储